据报道，俄罗斯已公布自主开发EUV（极紫外光刻） 光刻机 的路线图，目标是比ASML的光刻机更便宜、更容易制造。 据悉，俄罗斯的自主光刻机采用11.2nm的 激光光源，而非ASML标准的13.5nm。这种波长将与现有的EUV设备不兼容，需要俄罗斯开发自己的光刻生态系统，这可能需要十年或更长时间。 包括 ...