本研究实现叠层薄膜电池的重大技术突破，将钙钛矿-铜铟镓硒叠层电池效率纪录大幅提升，首次超越钙钛矿单结电池27.3% (0.1065平方厘米)效率纪录，显著增强了该类型叠层电池的市场竞争力。

本研究实现叠层薄膜电池的重大技术突破，将钙钛矿-铜铟镓硒叠层电池效率纪录大幅提升，首次超越钙钛矿单结电池27.3%（0.1065平方厘米）效率纪录，显著增强了该类型叠层电池的市场竞争力。低碳院光伏团队自主研发的高效率窄带隙、低粗糙度铜铟镓硒底电池技术 ...

Devicewafer工艺（即Pixel区域各种工艺，各层metal工艺）已完成，metal 上覆盖的passivation表面进行CMP平整化，做bonding准备工作。 图4体硅工艺 3.2.2 Device&carrier wafer alignment&adhesion Device&carrierwafer对位及粘合，如何对位？ 目前主要有以下几种adhesion工艺方法： ...

Pour la passivation, ils ont installé des couches d’oxyde d’aluminium de 4 nm d’épaisseur et de nitrure de silicium hydrogéné (SiNx/H) au niveau des deux faces de la cellule photovoltaïque.