IT之家 6 月 27 日消息，ASML 技术高级副总裁 Jos Benschop 在接受《日经亚洲》采访时表示，该企业已同光学组件独家合作伙伴蔡司一道启动了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻机开发。作为参考，目前的 TWINSCAN EXE:5000 光刻系统采用 High NA (0.55NA) 光学系统，分辨率为 8nm。更高的分辨率意味着先进制程企业可减少 ...